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Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide
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Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide

Baudrant, Annie
Passe en revue les étapes élémentaires de la fabrication de composants micro-électroniques : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. ... lire la suite
Date de parution prévue : 31/01/2003
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Passe en revue les étapes élémentaires de la fabrication de composants micro-électroniques : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. Présente les techniques de caractérisation, indispensables pour juger de la qualité des procédés. Pour chaque étape, sont détaillés le procédé, les équipements et la physique des techniques.
9782746206052

Auteur : Baudrant, Annie

Date de parution : 31/01/2003

Éditeur : Lavoisier-Hermès

Collection : Traité EGEM, Génie électrique

Classification : Technologie des communications

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